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第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露

第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露。在過去的幾十年裏,大氣汙染表現出驚人的速度。空氣中顆粒物濃度的急劇增加導致了呼吸道急性或慢性**的影響。在傳統研究中,是通過動物的吸入暴露實驗,確定可吸入物質對健康的影響。到目前為止,用於探討替代動物實驗的研究方法,還比較少。

一種在氣-液界麵,空氣與細胞直接接觸的實驗方法,由Cultex公司Aufderheide教授提出。細胞頂部表麵直接暴露於一個恒流的大氣環境中,底部有培養基供給,並有恒定溫度及CO2環境。2009年,Cultex公司提出了經典的輻射流氣道設計(Radial Flow System -Cultex® RFS),Cultex RFS被譽為細胞體外暴露方法中*成功的技術。

2014年,Cultex公司推出第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露。在RFS技術基礎上,compact增加了細胞培養暴露腔室數量,共計6個cell culture inserts,並分為兩組,可對其中一組(三個cell culture inserts)進行霧霾顆粒物暴露,另一組進行清潔空氣暴露的對比實驗,或6個腔室全部進行受試物/潔淨空氣的暴露實驗。

第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露係統內,6腔室徑向分布,保證顆粒物均勻的分布到每個腔室。電加熱係統為細胞體外培養提供*佳溫度條件,專門的CO2接入單元保證細胞進行更長時間的體外暴露。係統集成到一個帶有緊鎖裝置的支架中,保證係統的氣密性。Cultex RFS Compact經過Cultex實驗室對不同受試物質氣溶膠的劑量反應(dose-response),及不同暴露時間對受試物質細胞毒性的劑量依賴(dose-dependent)進行實驗驗證,驗證實驗表明其具有高度的實驗重複性及可靠性。

第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露的研究材料和方法

1、  Cultex RFS Compact

2、  6.5mm或12mm的細胞培養小室(cell culture inserts)

3、  Bronkhorst高精度MFC

4、  培養基灌注係統

5、  細胞株(ATCC:ccl-185)和分離的原代正常人支氣管上皮細胞(NHBE)

compact-1       compact-2

圖 1: 兩種氣路分布的CULTEX® RFS Compact

左圖: 三個細胞培養小室(cell culture inserts)暴露於受試氣溶膠,另外三個平行暴露於潔淨空氣

右圖: 六個細胞培養小室(cell culture inserts)全部暴露於受試氣溶膠或潔淨空氣

顆粒物暴露實驗在Cultex® RFS Compact中進行,細胞接種於12孔細胞培養小室中(well cell culture insert,COSTAR®/Corning),在氣-液界麵直接接觸暴露顆粒物24小時。在實   驗過程中,細胞底部持續供給培養基,並通過電加熱係統保證環境穩定在37°C。

香煙煙霧(全煙氣/氣相-K3r4F)和1.6%尼古丁液(***)作為受試物質進行細胞暴露實驗。

結果

用WST-1法測定細胞活性。對於電子香煙的細胞暴露,同時分析細胞氧化應激水平。暴露24後進行結果分析。結果與清潔空氣控製組進行對比(圖2和圖3)。兩組之間存在顯著差異,而符號(星號)定義如下:

**** p < 0.0001非常顯著,            *** p = 0.0001 – 0.001 非常顯著,

**  p = 0.001 – 0.01 很顯著,          * p = 0.01 – 0.05 顯著

compact-3

圖2: 采用WST-1分析法分析香煙煙氣(全煙氣/氣相)對A549細胞的細胞毒性作用。結果與潔淨空氣控製組的對比。Data are given as means + S.D. from 3 independent experiments with 3 samples each.


對比清潔空氣,10支香煙主流煙氣降低A549細胞的活性。隨著更多數量煙氣的暴露,細胞活性逐漸減小,同時全煙對細胞活性的影響更加明顯,相比煙氣相。暴露在清潔空氣中的細胞與細胞孵化箱中細胞的活性未有明顯變化。

compact-4

圖3: 香煙煙霧和1.6%尼古丁液(***)對NHBE暴露後的細胞毒性作用和氧化應激反應。結果與潔淨空氣控製組的對比。Data are given as means + S.D. from 3 independent experiments with 3 samples each.


對NHBE細胞,細胞活力和氧化應激水平的影響是相對的。暴露於***液的細胞,細胞活性降低並氧化應激水平的增加。主流煙氣的暴露,細胞的更低存活率和更高的氧化應激。清潔空氣控製組的細胞比孵化器內培養的細胞表現出較高的氧化應激,這是由於清潔空氣氣流對細胞的機械剪切力刺激的結果。所以,孵化器和清潔空氣控製的細胞存活率差異不顯著。


結論與展望

•  第三代細胞暴露染毒係統Cultex RFS Compact,細胞氣液界麵的直接暴露適用於6個 6.5 mm 或 12 mm 現有的通用細胞培養小室(COSTAR®和 Falcon®)的直接暴露。

•  每個CULTEX® RFS Compact 內可進行兩組平行實驗,三個培養小室(cell culture inserts)用於受試物,另外三個平行用於清潔空氣或不同濃度受試物。

•  數據顯示其具有良好的劑量效應和高度的實驗重複性。

•  適用於氣體為載體的各種受試物質,如香煙煙霧、納米顆粒、PM2.5、PM10、VOCs、霧霾混合物、幹粉顆粒物及霧化氣溶膠等等。

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